Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ

И. С. Смирнов, Е. Г. Новоселова, А. А. Егоров

ФГБНУ «Научно−исследовательский институт перспективных материалов и технологий»

И. С. Монахов

В настоящее время особую значимость приобретают методы мониторинга, позволяющие измерять параметры пленочных структур непосредственно во время их формирования — in situ методы. Применение этих методов способствует получению пленок с заданными характеристиками, позволяя оперативно корректировать режимы технологического процесса. Рассмотрены возможности метода in situ рентгеновской рефлектометрии для определения параметров наноразмерных пленок в процессе их формирования. Приведены результаты экспериментов по магнетронному напылению наноразмерных пленок кремния и других материалов на кремниевые подложки.

1. Новоселова, Е. Г. Материалы IV Междунар. науч. семинара «Современные методы анализа дифракционных данных» / Е. Г. Новоселова, И. С. Смирнов, М. Г. Тюрганов. − В. Новгород, 2008. − С. 150—152.
2. Мишетт, А. Оптика мягкого рентгеновского излучения / А. Мишетт. − М. : Мир, 1989. − 351 с.
3. Tolan, M. X−ray scattering from soft matter thin films. Material science and basic research. // M. Tolan / Springer tracts in modern physics. − 1999. − V. 148. − P. 197.
4. Виноградов, А. В. Зеркальная рентгеновская оптика / А. В. Виноградов, И. А. Брытов, А. Я. Грудский и др. − Л. : Машиностроение, 1989. − 463 с.
5. Белянин, А. Ф. Наноматериалы. IV. Тонкие пленки как наноструктурированные системы / А. Ф. Белянин, М. И. Самойлович. − М. : ЦНИТИ «Техномаш», 2008. − 256 с.