Журналы →  Материалы электронной техники →  2013 →  №2 →  Назад

НАНОМАТЕРИАЛЫ И НАНОТЕХНОЛОГИИ
Название О температурной зависимости фотолюминесценции квантовых точек кремния
Автор С. Н. Нагорных, В. И. Павленков, А. Н. Михайлов, А. И. Белов, В. А. Бурдов, Л. В. Красильникова, Д. И. Крыжков, Д. И. Тетельбаум
Информация об авторе

Научно−исследовательский физико−технический институт Нижегородского государственного университета имени Н. И. Лобачевского:

С. Н. Нагорных

В. И. Павленков

А. Н. Михайлов

А. И. Белов
В. А. Бурдов

Д. И. Тетельбаум

 

Институт физики микроструктур РАН:

Л. В. Красильникова

Д. И. Крыжков

Реферат

Представлена модель излучательных и безызлучательных переходов в квантовых точках кремния, которая описывает температурную зависимость фотолюминесценции ионно−синтезированных массивов нанокристаллов Si в SiO2. Рассмотрена четырехуровневая схема переходов, учитывающая термоактивированные процессы и обменное расщепление основного энергетического состояния экситона в нанокристалле кремния на триплетный и синглетный уровни, переходы с которых в основное состояние ответственны за люминесценцию. На основе стационарного решения системы кинетических уравнений, описывающих заселенность уровней, получено выражение для температурной зависимости монохроматических составляющих фотолюминесценции, которое удовлетворительно описывает экспериментальные результаты. Найдены и сравнены с литературными данными величины расщепления энергетического состояния экситона в зависимости от энергии излучаемых фотонов.

Исследование выполнено при поддержке Министерства образования и науки Российской Федерации (ФЦП «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России») и РФФИ (10−02−00995, 12−02−00980).

Ключевые слова Кремний, диоксид кремния, нанокристалл, квантовая точка, ионная имплантация, фотолюминесценция, температурная зависимость, четырехуровневая схема электронных переходов
Библиографический список

1. Silicon nanocrystals: fundamentals, synthesis and applications / Ed. by L. Pavesi, R. Turan. − Weinheim: WILEY−VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2010. − 613 p.
2. Canham, L. T. Silicon quantum wire array fabrication by electrochemical and chemical dissolution of wafers / L. T. Canham // Appl. Phys. Lett. − 1990. − V. 57, N 10. − P.1046—1048.
3. Heitmann, J. Excitons in Si nanocrystals: confinement and migration effects / J. Heitmann, F. Muller, L. Yi, M. Zacharias, D. Kovalev, F. Eichhorn // Phys. Rev. B. − 2004. − V. 69. − P. 195309.
4. Kobitski, A. Yu. Self−trapped exciton recombination in silicon nanocrystals / A. Yu. Kobitski, K. S. Zhuravlev, H. P. Wagner, D. R. T. Zahn // Ibid. − 2001. − V. 63. − P. 115423.
5. Allan, G. Nature of luminescent surface states of semiconductor nanocrystallites / G. Allan, C. Delerue, M. Lannoo // Phys. Rev. Lett. − 1996. − V. 76, N 16. − P. 2961—2964.
6. Calcott, P. D. J. Identification of radiative transitions in highly porous silicon / P. D. J. Calcott, K. J. Nash, L. T. Canham, M. J. Kane, D. Brumhead // J. Phys: Condens. Matter. − 1993. − V. 5. − P. L91—L98.
7. Бурдов, В. А. Зависимость ширины оптической щели кремниевых квантовых точек от их размера / В. А. Бурдов // ФТП. − 2002. − Т. 36, № 10. − С. 1233—1236.
8. Delerue, C. Theoretical aspects of the luminescence of porous silicon / C. Delerue, G. Allan, M. Lannoo // Phys. Rev. B. − 1993. − V. 48, N 15. − P. 11024—11036.
9. Wang, J. Thermal activation energy of crystal and amorphous nano−silicon in SiO2 matrix / J. Wang, M. Righini, A. Gnoli, S. Foss, T. Finstad, U. Serincan, R. Turan // Solid State Communications. − 2008. − V. 147. − P. 461—464.
10. Kapoor, M. Origin of the anomalous temperature dependence of luminescence in semiconductor nanocrystallites / M. Kapoor, V. A. Singh, G. K. Johri // Phys. Rev. B. − 2005. − V. 72. − P. 195313
11. Tetelbaum, D. I. Influence of the nature of oxide matrix on the photoluminescence spectrum of ion−synthesized silicon nanostructures / D. I. Tetelbaum, O. N. Gorshkov, A. V. Ershov, A. P. Kasatkin, V. A. Kamin, A. N. Mikhaylov, A. I. Belov, D. M. Gaponova, L. Pavesi, L. Ferraioli, T. G. Finstad, S. Foss // Thin Solid Films. − 2006. − V. 515, N.1−2. − С. 333—337.
12. Wang, Y. Q. The effect of implantation dose on the microstructure of silicon nanocrystals in SiO2 / Y. Q. Wang, R. Smirani, G. G. Ross // Nanotechnology. − 2004. − V. 15. − P. 1554—1560.
13. Mott, N. F. Silicon dioxide and the chalcogenide semiconductors; similarities and differences / N. F. Mott // Adv. Phys. − 1977. − V. 26, N 4. − С. 363—391.
14. Fernandez, B. G. Influence of average size and interface passivation on the spectral emission of Si nanocrystals embedded in SiO2 / B. G. Fernandez, M. Lopez, C. Garcia, A. Perez−Rodriguez, J. R. Morante, C. Bonafos, M. Carrada, A. Claverie // J. Appl. Phys. − 2002. − V. 91, N 2. − P. 798—807.
15. Тетельбаум, Д. И. О влиянии процесса коалесценции и характера исходного оксида на фотолюминесценцию ионно−синтезированных нанокристаллов Si в SiO2 / Д. И. Тетельбаум, О. Н. Горшков, А. П. Касаткин, А. Н. Михайлов, А. И. Белов, Д. М. Гапонова, С. В. Морозов // ФТТ. − 2005. − Т. 47, № 1. − С. 17—21.

Language of full-text русский
Полный текст статьи Получить
Назад