Journals →  Цветные металлы →  2013 →  #7 →  Back

Магний, титан, редкие металлы, полупроводники
ArticleName Развитие конструкций реакторов псевдоожиженного слоя для синтеза трихлорсилана
ArticleAuthor Иванов В. М., Трубицын Ю. В.
ArticleAuthorData

Классический приватный университет, г. Запорожье, Украинская Республика

В. М. Иванов, аспирант, e-mail: v.m.ivanov@rambler.ru
Ю. В. Трубицын, проф. каф. системного анализа

Abstract

Рассмотрены конструктивные особенности реакторов псевдоожиженного слоя (ПОС) синтеза трихлорсилана, используемого при производстве поликристаллического кремния. Трихлорсилан получают методами гидрохлорирования технического кремния и гидрирования тетрахлорида кремния, являющегося побочным продуктом при производстве поликремния. Современные технологии предусматривают гидрирование тетрахлорида кремния до трихлорсилана, который направляют в производство поликремния. Описаны известные конструкции ПОС-реакторов, разработанных для синтеза трихлорсилана. В практике синтеза нашли применение аппараты с фонтанирующим и взвешенным слоем. Рассмотрены конструктивные особенности реакторов, предназначенных для гидрохлорирования кремния и гидрирования тетрахлорида кремния. Представлены их преимущества и недостатки. Даны предложения по применению реакторов с фонтанирующим и взвешенным слоем. Сделан вывод, что для считающегося в настоящее время перспективным каталитического гидрирования наиболее целесообразной является разработка и внедрение реактора с взвешенным слоем.

keywords Трихлорсилан, тетрахлорид кремния, гидрохлорирование, гидрирование, реактор, царга, газораспределительная решетка, псевдоожижение, фонтанирующий слой, взвешенный слой
References

1. Иванов В. М., Трубицын Ю. В. Перспективность создания замкнутого производства поликристаллического кремния // Новi технології. 2010. № 1. С. 53–58.
2. Фалькевич Э. С., Пульнер Э. О., Червонный И. Ф. и др. Технология полупроводникового кремния. — М. : Металлургия, 1992. С. 160–165.
3. Сивошинская Т. И., Гранков И. В., Шабалин Ю. П., Иванов Л. С. Переработка тетрахлорида кремния, образующегося в производстве полупроводникового кремния / Производство редких металлов и полупроводниковых материалов : обзорная информация. — М. : ЦНИИцветмет экономики и информации, 1983. — 43 с.
4. Пат. 2373147 РФ. Способ получения хлорсиланов, способ хлорирования содержащего двуокись кремния сырья и способ конверсии тетрахлорсилана в трихлорсилан / Щепелев А. В. ; заявл. 26.02.2008 ; опубл. 20.11.2009.
5. Расчеты аппаратов кипящего слоя : справочник / под ред. И. П. Мухленова, Б. С. Сажина, В. Ф. Фролова. — Л. : Химия, 1986. С. 9.
6. Аркадьев А. А., Назаров Ю. Н., Кох А. А. и др. Влияние давления на соотношение трихлорсилана и тетрахлорида кремния в парогазовой смеси, образующейся в процессе прямого синтеза трихлорсилана // Цветные металлы. 2012. № 7. С. 62–64.
7. ГОСТ 380–2005. Сталь углеродистая обыкновенного качества. Марки. — Введ. 01.07.2008.
8. А. с. 1579556 СССР. Реактор с псевдоожиженным слоем / П. А. Данов, А. Л. Данилевский, Л. Я. Шварцман и др. ; заявл. 01.06.1987 ; опубл. 23.07.1990.
9. Иванов В. М., Трубицын Ю. В. Применение способов гидрирования тетрахлорида кремния в технологии производства поликремния // Материалы электронной техники. 2010. № 4. С. 10–13.

Language of full-text russian
Full content Buy
Back